Probenpräparation:


  • Kathodenstrahl-Sputtern in speziellem UHV-System mit Analyseeinrichtungen
  • Magnetron-Sputtern im HV und im Hintergrundgas
  • Elektrochemische Anlagen zu Clusterherstellung
  • Gepulste Laser Deposition (in Zusammenarbeit mit H.-U. Krebs)


Probencharakterisierung:


  • Röntgenbeugung in Bragg-Brentano Geometrie und mit Texturgoniometer
  • Röntgenbeugung in Bragg-Brentano sowie Durchstrahl-Geometrie am DESY, HASYLAB in Hamburg
  • (SEM)
  • Transmissions-Elektronenmikroskopie (HR-TEM, STEM, EDX)
  • Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS)
  • Tomographische Atomsonde, Feldionenmikroskopie (FIM, AP-FIM,TAP)
  • UHV-Rastersondenmikroskopie (UHV-AFM, UHV-STM) an speziellem UHV-System
  • Lichtmikroskopie (LM)
  • in Zus. mit Firma Mahr sowie der HAWK, Göttingen
  • GISAX am DESY, HASYLAB in Hamburg
  • EXAFS am DESY, HASYLAB in Hamburg


  • HV-Gasvolumetrie (300 K - 873 K) zur Bestimmung des chemischen Potentials
  • HV-Gasgravimetrie zur Bestimmung des chemischen Potentials
  • elektrochemische Doppelzelle zur Bestimmung des chemischen Potentials sowie der Diffusionskonstanten
  • in-situ Röntgenbeugung in Bragg-Brentano sowie Durchstrahl-Geometrie am DESY, HASYLAB in Hamburg
  • in-situ Bestimmung mechanischer Spannungen durch Messung der Substratkrümmung
  • Oberflächenmorphologie durch UHV-AFM, UHV-STM unter kontollierten Gaspartialdrücken
  • Lichtmikroskopische Untersuchung der kontrollierten Schichtdelamination
  • in-situ Widerstandsmessungen an Wachstumsinseln
  • GISAX am DESY, HASYLAB in Hamburg
  • EXAFS am DESY, HASYLAB in Hamburg